Las tecnologías de fabricación avanzan a marchas forzadas. De 14 nm se pasó a 12 nm y de ahí a 10 nm y luego a 7 nm. En el futuro se habla ya de 5 nm e incluso 3 nm. Pero cada salto generacional supone tener que inventar las tecnologías necesarias para trabajar con litografías en las que hay miles de millones de transistores. Ahora, parece que IBM ha conseguido resolver los problemas que dificultaban ir más allá de los 7 nm.
Es un método que usa grafeno para depositar nano materiales en los lugares apropiados sin que haya contaminación química. La investigación ha sido publicada en Nature Communications, y en ella se describe el proceso de electrificación del grafeno, lo cual ayuda a depositar estos nanomateriales con una precisión del 97%. Esta investigación es parte de un programa de inversión de 3.000 millones de dólares que empezó IBM cuatro años atrás, denominado "7 nm y más allá".
Las funcionalidades de los dispositivos dependen en parte de las propiedades de los nano materiales empleados, con posibilidades tales como la integración de detectores de luz y emisores operando a diferentes longitudes de onda determinadas por las propiedades de los materiales. A modo de ejemplo, Mathias Steiner, manager en IBM-Research, explicaba que, para cambiar el rendimiento espectral de un dispositivo optoelectrónico, tan solo se necesita reemplazar el nano material o combinando varios nano materiales en un mismo dispositivo.
