En los pasados años Intel no ha pasado por su mejor momento en lo que a fabricación de chips se refiere. El nodo de 10 nm ha sido pospuesto durante años hasta el punto de que ya parecía que no iba a hacerse realidad nunca. De todos modos, finalmente ha sido factible emplear este nodo de 10 nm para fabricar procesadores en grandes cantidades.
TSMC, por otro lado, ha ido saltando de nodo en nodo con gran agilidad llegando al de 5 nm actual, y con el de 4 nm en camino. Las diferencias entre Intel y TSMC, a estas alturas, son muy evidentes. Para cuando Intel tenga listo su nodo de 7nm en 2023, TSMC estará en los 3 nm+.
La solución que Intel ha ideado es bastante simple: cambiar el nombre a sus nodos de fabricación para que no sea fácil hacer una comparación de un modo tan evidente como ahora. De todos modos, hay que tener en cuenta que los nodos de fabricación se caracterizan también por la densidad de transistores. Si usamos esta métrica, parece ser que el nodo de 10 nm de Intel equivaldría a un nodo de 7 nm de TSMC, por ejemplo.
El tamaño en nanómetros es solo una forma de indicar saltos generacionales, y aluden a parámetros concretos como el ancho de la puerta de los transistores. Pero en el momento actual, cuando los transistores han cambiado su geometría de un modo tan radical, decir que el ancho de la puerta es de 5 nm no representa el conjunto total de lo que son los transistores, por poner un ejemplo.
